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据CNBC报道称，世界闻名的先进光刻机智造商荷兰AMSL公司正在研发一种新版本的EUV光刻机。
同茂线性马达小编了解到，该新型EUV光刻机被称为 High NA（高数值孔径），目前正在开发当中，AMSL公司预估将在2023年完成开发并为个别客户提供先行体验，以便芯片制造商可以较快验证并学会如何使用。然后，客户可以在 2024 年和 2025 年利用High NA进行自己的研发工作。从 2025 年开始，它们很可能用于大批量制造。
众所周知，光刻机是芯片生产的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响，只有EUV光刻机可以生产出5纳米以下的芯片晶圆，而要生产出更为复杂的芯片，就得靠High NA。
说到光刻机，线性马达正成为光刻机不可或缺的零部件之一，线性马达因具备高速度、高精度、高平稳性等特征，被大力引入光刻机中作为驱动装置。
同茂线性马达由昆山同茂电子有限公司自研自产自销，同茂线性马达在光刻机领域已有实际应用案例，像上海微电子（国产光刻机制造桑）就是咱同茂的战略合作伙伴。
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